Ученый НИИМЭ Аскар Резванов выступил с докладами на конференции PESM в Гренобле

Ученый НИИМЭ Аскар Резванов выступил с докладами на конференции PESM в Гренобле

27.05.2019
Инженер-технолог отдела разработки технологических процессов АО «НИИМЭ» Аскар Резванов принял участие в международной конференции PESM – Plasma Etch and Strip in Microtechnology, которая проводилась с 21 по 22 мая в Гренобле (Франция), где расположен один из крупнейших в мире исследовательских центров по микроэлектронике CEA-Leti. PESM ежегодно объединяет исследователей и производителей микроэлектронных компонентов со всего мира, которые докладывают коллегам о результатах работы в области процессов травления, применяемых при изготовлении полупроводниковых интегральных микросхем.

Аскар Резванов представил два доклада: выполненную совместно с коллегами из Imec и TEL работу “A Novel Volatile Film for Dielectric Plasma Damage Protection” и “The process of low-temperature etching of porous low-k dielectrics in C2F4Br2 plasma” - доклад, в подготовке которого принимали участие коллеги Аскара из ФТИАН РАН и МИРЭА.

Программа конференции включала в себя четыре секции: «Современные подходы к травлению и удалению резистов для производства КМОП», в ходе которой были представлены доклады по травлению структур для FinFet, STI, пористых Low-k диэлектриков; «Подходы к процессам травления в рамках парадигмы More than Moore» (работы по травлению МЭМС, элементов оптоэлектроники, 3D ИС); «Фундаментальные аспекты плазмы», где рассказывалось про моделирование, о новых источниках плазмы, о методах диагностики плазмы; Секция «Новые процессы и материалы» была посвящена процессам атомно-слоевого травления, травлению элементов группы A3B5, MRAM.

Большинство докладов были подготовлены молодыми учеными.  Организаторы и участники PESM высоко оценили уровень прозвучавших докладов, а также выразили желание в будущем расширить круг тем для обсуждения.

Справка: PESM – Plasma Etch and Strip in Microtechnology международный форум, посвященный плазменному травлению для микро, нано и биотехнологий. В Форуме принимают участие ученые и инженеры-технологи нано- и микроэлектронной отрасли. Темы докладов включают в себя как фундаментальные, так и прикладные исследования, а также вопросы, связанные с постепенным уменьшением размеров устройств.
Подробнее: http://pesm2019.insight-outside.fr/en/topics/1