НИИМЭ ОРГАНИЗУЕТ КОНФЕРЕНЦИЮ "МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОНИКА – 2016" (ICMNE-2016)

АО «НИИМЭ» стал соорганизатором Международной конференции "Микро- и наноэлектроника – 2016" (ICMNE-2016), включающей расширенную сессию "Квантовая информатика" (QI-2016), которая пройдет 3-6 октября 2016 года в подмосковном д/о "Ершово" под Звенигородом. 
Конференция ICMNE продолжает серию Всероссийских конференций и проводится один раз в два года, охватывая наиболее важные области физики и технологии приборов микро- и наноэлектроники, а также квантовой информатики. На конференции также будет работать выставка, посвященная технологическому и диагностическому оборудованию для микро- и наноэлектроники. 

Тематика конференции:

Материалы и пленки для микро- и наноэлектронных структур:

·         Si, SOI, DOI, SiGe, A3B5, A2B6

·         High-k диэлектрики, low-k диэлектрики

·         Металлы для затворов, контактов и систем металлизации наноразмерных приборов

·         Магнитные материалы, наномагнетики

·         1D и 2D материалы

·         Материалы для оптоэлектроники, солнечной энергетики, метаматериалы

Физика микро- и наноразмерных приборов:

·         Тенденции масштабирования: More Moore, beyond CMOS, and more than Moore trends

·         Нанотранзисторы: CMOS FET, TFET, SET, молекулярные и другие

·         Интегральные устройства памяти, DRAM, ReRAM, FeRAM

·         Магнитные микро- и наноструктуры, приборы спинтроники

·         Сверхпроводящие микро- и наноприборы и устройства

·         Приборы оптоэлектроники, фотоники

·         Микро- и наноэлектромеханические системы (MEMS, NEMS)

·         Моделирование

Технологии и перспективное технологическое оборудование для производства приборов микро- и наноэлектроники:

·         Суб-65 нм литография: DUV, иммерсионная, EUV, электронная и ионная литография, наноимпринт

·         Front-End of Line (FEOL) процессы для технологии УБИС

·         Back-End of Line (BEOL) процессы для технологии УБИС

·         Технологии получения 2D материалов (графен, MoS2, WS2 и другие)

·         Технологии создания МЭМС и НЭМС

·         Технологии создания сверхпроводящих приборов

Метрология:

·         In situ методы мониторинга технологических процессов

·         Методы контроля, диагностики и характеризации микро- и наноструктур

Квантовая информатика:

·         Квантовые компьютеры: теория и эксперимент

·         Квантовые измерения

·         Квантовые алгоритмы

·         Квантовая связь

Организаторы и спонсоры:

·         Физико-технологический институт, Москва, Россия

·         АО "Научно-исследовательский институт молекулярной электроники", Зеленоград, Россия

·         Российский фонд фундаментальных исследований, Москва, Россия

·         Российская академия наук, Отделение нанотехнологий и информационных технологий

·         Научный Совет РАН по физическим и химическим основам полупроводникового материаловедения

·         SPIE – The International Society for Optical Engineering, USA - the publisher of the Conference proceedings

·         Институт физики полупроводников, Новосибирск, Россия

·         Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Москва, Россия

·         Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия

·         TechnoInfo Ltd., Wembley, UK

·         Компания НИКС, Москва, Россия

·         ЗАО "НТО" (SemiTEq), Санкт-Петербург, Россия